Изучение применимости модели неупругого термического пика для описания механизма трекообразования в Si 3 N 4
Просмотры: 83 / Загрузок PDF: 78
DOI:
https://doi.org/10.32523/2616-6836-2019-127-2-48-56Аннотация
Настоящая работа посвящена изучению применимости модели неупругого термического пика для описания процесса трекообразования в нитриде кремния, облученном высокоэнергетическими тяжелыми ионами. Проведено моделирование взаимодействия
налетающих ионов и атомов материала с помощью программы i-TS с использованием трех коэффициентов электрон - фононного взаимодействия λ =3, 4,3 и 4,8 нм. Показано, что экспериментальные значения размеров треков сильно отличаются от теоретических как для
кристаллического, так и для аморфного Si 3 N 4 , что говорит о неприменимости данного подхода для описания экспериментальных результатов в нитриде кремния.